刻蚀机和光刻机的区别 蚀刻机 光刻机 区别
来源： 最后更新：22-07-09 10:00:46
导读：1、工艺不同：刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉，光刻机是将图形刻到硅片上；2、难度不同：光刻机的难度和精度大于刻蚀机。
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刻蚀机和光刻机的区别主要在：
1、工艺不同：刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉，光刻机是将图形刻到硅片上；
2、难度不同：光刻机的难度和精度大于刻蚀机。
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